公司动态
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在科研领域,对于高纯度化合物或扩散半导体晶片的煅烧,以及陶瓷材料的烘烧或烧结,都离不开一款性能卓越的实验设备——1200℃高校实验坩埚炉。今天,就让我们深入了解一下这款AFD-1200-LG坩埚炉的亮点和优势。
首先,AFD-1200-LG坩埚炉在技术参数上达到了行业领先水平。其炉膛有效尺寸为200x200mm,满足多种实验需求。正常工作温度可达1100℃,而最高温度更是高达1200℃,为各种高温实验提供了可靠保障。
值得一提的是,该坩埚炉的温控系统采用了30段PID微电脑可编程自动控制技术。这意味着用户可以轻松设定升降温程序,实现精确的温度控制。此外,该系统还具备人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能,大大提高了实验的准确性和效率。
在温度控制方面,AFD-1200-LG坩埚炉的控温精度可达±1℃,确保实验结果的可靠性。同时,该设备还具备超温和断偶保护功能,有效避免意外事故的发生。
在加热速率方面,AFD-1200-LG坩埚炉表现出色。其加热速率可达0~20℃/分,满足快速升温的需求。加热元件采用合金电阻丝,保证了加热效果的同时降低了能耗。
此外,该设备的工作电压为AC 220V单相50HZ(电路电压用户可选择定制),大功率为3KW。K型热电偶测温系统确保了温度测量的准确性。炉壳温度控制在≤45℃,保证了操作人员的安全。
值得一提的是,AFD-1200-LG坩埚炉还提供了相关配件,如坩埚钳、高温手套、热电偶、门堵等,方便用户进行操作和维护。
总之,AFD-1200-LG坩埚炉凭借其卓越的性能和稳定的品质,成为了科研领域不可或缺的实验设备。在选择实验设备时,不妨将这款产品纳入考虑范围。相信它能为您的科研工作带来更多便利和惊喜!