公司动态
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在当今科技日新月异的时代，高纯度化合物和扩散半导体晶片的制备技术不断升级，真空或惰性气体保护下的煅烧设备成为了关键。今天，就让我们来深入了解一下这款由石英坩埚（或氧化铝陶瓷坩埚）和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。
首先，这种真空坩埚炉的构造非常独特。石英坩埚或氧化铝陶瓷坩埚的耐高温性能保证了在煅烧过程中不会因为温度过高而损坏样品。而不锈钢法兰则提供了良好的密封性能，确保了真空或惰性气体保护的效果。
接下来，我们来看看这款设备的强大功能。它主要用于煅烧真空或惰性气体保护下的高纯度化合物或扩散半导体晶片。在高温下，这种设备能够有效地促进化学反应，提高产品的纯度和质量。此外，它还可以用于烘烧或烧结陶瓷材料，满足不同领域的需求。
那么，这款真空井式坩埚炉的参数如何呢？以下是一些关键参数：
1. 型号：AFD-1200T、AFD-1400T、AFD-1700T；
2. 工作温度：＞1200℃、＞1400℃、＞1700℃；
3. 加热元件：电阻丝、硅碳棒、硅钼棒；
4. 热电偶：K型、S型、B型；
5. 控温方式：3段可编程自动控制，PID调节控温度；
6. 升温速率：0-10℃（AFD-1200T）、0-20℃（AFD-1400T、AFD-1700T）；
7. 控温度：±1℃；
8. 大真空度：-0.1MPa；
9. 炉膛材料：氧化铝陶瓷纤维板；
10. 炉壳：双层炉壳，风冷结构（炉底安装两个散热风扇），炉壳表面温度低于60度；
11. 额定功率：1KW—8KW；
12. 常用炉膛尺寸：Φ240xH220mm；Φ40xH300mm；Φ60xH300mm；Φ80xH300mm；Φ100xH300mm；Φ120xH300mm。
从这些参数可以看出，这款真空井式坩埚炉具有出色的性能和广泛的应用前景。对于需要高纯度化合物和扩散半导体晶片的企业来说，这款设备无疑是一个理想的选择。
总之，随着科技的不断发展，真空或惰性气体保护下的煅烧设备在各个领域都发挥着越来越重要的作用。而这款由石英坩埚（或氧化铝陶瓷坩埚）和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉正是应运而生的高品质产品。相信在未来，它将为更多企业带来便利和效益。
