公司动态
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真空井式坩埚炉，作为现代科研和生产领域的重要设备，其高效、稳定的工作性能，无疑为各类实验和小批量生产提供了强有力的支持。今天，我们就来深入了解一下这款设备的优势及其在科研、工业中的应用。
首先，真空井式坩埚炉采用氧化锆或氧化炉坩埚，工作温度区间在800℃至1600℃之间。这样的设计使得设备能够满足多种实验需求，无论是煅烧高纯度化合物，还是退火或扩散半导体晶片，亦或是烘烧或烧结陶瓷材料等，都能轻松应对。
值得一提的是，该系列设备的控制系统具有安全可靠、操作简单、控温高、保温效果好等特点。炉膛温度均匀性高，可通气氛抽真空，大大提高了实验的准确性和效率。此外，双层壳体结构和智能化程序控温系统，移相触发、可控硅控制等先进技术的应用，使得设备在节能方面也表现出色。
在实际应用中，真空井式坩埚炉得到了高校、科研院所和工矿企业的广泛认可。以某高校为例，他们使用该设备进行半导体晶片的退火实验，成功提高了晶片的纯度和质量。再如某工矿企业，他们利用该设备进行陶瓷材料的烧结实验，实现了生产效率的提升和成本的降低。
当然，一款优秀的设备离不开完善的技术参数。以下是一些真空井式坩埚炉的技术参数：
- 产品型号：AFD-2-17TP
- 工作电源：AC220V 50/60HZ
- 炉膛尺寸：外径150x内径130x高200mm
- 额定功率：≤6kw
- 外形尺寸：450x550x650mm
- 重量：70kg
- 升温快速度：0~30℃/min（建议不超过20℃）
- 产品特点：可装真空装置，能在多种气氛下工作，50段程序控温
- 加热元件：硅钼棒
- 常用温度：≤1500℃
- 高温度：1600℃
- 控温方式：50段智能化程序PID模糊控制
- 恒温度：±1℃
- 控温仪表：智能温控仪
- 密封方式：全封闭
- 炉膛：氧化铝多晶纤维炉膛，设计合理，经久耐用，保温性能好，节能
- 测温元件：B型热电偶
- 炉门结构：上开式
- 主要配件：密封法兰1套、坩埚1个、真空泵1台、高温手套1副、热电偶1根等
- 大真空限：≤0.1MPa
总之，真空井式坩埚炉凭借其卓越的性能和广泛的应用领域，成为了科研和生产领域的得力助手。在未来，随着技术的不断进步和创新应用的拓展，相信这款设备将会发挥更大的作用。
